奖项介绍

芝加哥优良设计奖为全球最为知名、历史悠久的国际设计大奖之一，从1950年开始至今已有将近70年的历史。由芝加哥雅典娜建筑设计博物馆与欧洲建筑、艺术与城市研究中心合作举办。该奖推动发掘世界最具有创新和尖端科技的工业、产品以及平面设计，唤起人们对当代设计的重新认识，并表彰设计和制造领域的产品和行业领导者，这些新的方向指明了方向，并推动了竞争产品的发展在世界市场上。

参赛类别

创新设计，新技术，形式，材料，概念

参赛要求

2020年1月至今生产或设计的项目才可参加该计划。

报名时间

• 开始日期：2021年1月1日
• 截止日期：2021年6月1日

官方报名费用

375美元/类目

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邮箱：alisa@prizes.design

电话：13636366864

内容由相关赛事官网收集整理，如有变动，以官方公布为准。